De Rijksuniversiteit Groningen (RUG) en ASML hebben een nieuw raamwerkakkoord ondertekend om hun samenwerking te intensiveren. De overeenkomst beslaat onder meer gezamenlijke onderzoeksprojecten op het gebied van geavanceerde materialen, stromingsprocessen, speciale coatings en geavanceerde regeltechniek.
De overeenkomst bouwt voort op jarenlange samenwerking, met name via het door ASML gecofinancierde Advanced Research Center for Nanolithography (ArcNL) en het gebruik van de Zernike-Leif-ionenbundelfaciliteit van de RUG. Onlangs is deze samenwerking verder geïntensiveerd met een nieuw traject rond de volgende generatie belichtingstechnologie voor chips, met euv-licht dat een nog kortere golflengte heeft dan de 13,5 nanometer die nu in ASML’s meest geavanceerde scanners wordt gebruikt.
De samenwerking sluit ook aan bij de nationale Beethoven-strategie om halfgeleidertalent te cultiveren. De noordelijke regio moest eerder slikken dat zij slechts zeven procent van het Beethoven-budget kreeg toegekend.
