Naast Substrate en XLight blijkt er nog een derde partij te werken aan een alternatief voor ASML’s euv-lichtbronnen. In een interview met Timestech schetst de Amerikaanse start-up Tau Systems plannen om compacte deeltjesversnellers en vrije-elektronenlasers in te zetten voor chiplithografie. ‘Ons doel is om de euv-lichtbron in moderne lithografiemachines te vervangen door zeer efficiënte röntgenlasers’, zegt Tau-ceo Jerome Paye.
De lichtbron van Tau maakt gebruik van zogeheten wakefield acceleration, waarbij ultrakorte laserpulsen in een plasma worden geschoten om een sterk elektrisch veld op te wekken dat elektronen binnen een afstand van slechts enkele millimeters fors versnelt. Met die elektronen wordt vervolgens coherente zachte-röntgenstraling gegenereerd via een vrije-elektronenlaseropstelling. Volgens Tau past het complete systeem in een standaard zeecontainer.
‘Onze lichtbronnen hebben een hoge efficiëntie van elektrische naar optische energie, mede omdat ongebruikte energie wordt teruggewonnen om de efficiëntie te verhogen. In combinatie met de hogere reflectiviteit van onze optica, verlaagt onze krachtige laser de operationele kosten door de productiesnelheid te verhogen’, aldus Paye.
Volgens ASML is een alternatieve euv-brontechnologie niet nodig. Het bedrijf heeft een roadmap om het vermogen van laser-produced plasma-bronnen tot over de duizend watt te verhogen. Daarna beperken andere factoren dan de helderheid van de lichtbron de productiviteit, zoals de versnelling van de waferstage of de gevoeligheid van de fotolak.
