High-NA-tool: check. Proces: check. Chips: even geduld nog.

High-NA euv-lithografie maakt zich op voor een nieuwe fase. Eind mei kondigde ASML-topman Christophe Fouquet aan dat ‘binnen enkele maanden’ de eerste met high-NA gemaakte chips zullen worden getoond, daarmee implicerend dat de belangrijkste hobbels zijn genomen om de technologie in productie toe te passen. Het is nu zaak de productieomgevingen in te richten, de productie op te starten en vervolgens te finetunen om de opbrengst te maximaliseren. Naar verwachting zal deze aanloop naar volumeproductie overigens nog een jaar of twee duren.

Dat de eerste high-NA-chips al in zicht zijn, is volgens Geert Vandenberghe, VP Patterning bij Imec, allesbehalve vanzelfsprekend. ‘Het gezamenlijke High-NA Lab van ASML en Imec opende begin 2024 zijn deuren. Dat vormde het startschot voor een complex traject van co-optimalisatie van tool, resist, masker en andere procesaspecten. Dat we het nu al over de eerste productchips hebben, mag gerust ontzettend snel worden genoemd.’