Het Delftse Delmic heeft op het International Microscopy Congress in Liverpool een nieuwe meetoplossing voor elektronenmicroscopen gelanceerd. Door specialistische handelingen te automatiseren, zou het Sparc 3.0-systeem sneller zijn dan bestaande alternatieven.
Elektronenmicroscopen werken met cathodoluminescentietechnieken. Daarbij worden materialen bestraald met elektronen, wat licht laat vrijkomen dat vervolgens geanalyseerd kan worden. De apparaten worden ingezet om materialen op nanodetail te bekijken, bijvoorbeeld om defecten in halfgeleiders en chips op te sporen. Het gebruik vereist vaak ervaren operators en kleine verschillen in handelingen kunnen het resultaat van de meting beïnvloeden. Sparc 3.0 moet deze deviaties voorkomen door handelingen als uitlijnen en kalibreren te automatiseren en gebruikers de mogelijkheid te bieden om instellingen op te slaan.
Het meetsysteem kan volgens TU Delft-spin-off Delmic bovendien meer metingen per uur uitvoeren dan huidige oplossingen en meerdere gebieden automatisch na elkaar meten, waardoor het nog minder handelingen van de operator vereist. Bovendien komt er een upgrade beschikbaar waarmee vergeleken kan worden hoe materialen reageren op zowel elektronen als lichtbestraling. Dit kan waardevol zijn voor onderzoek naar nieuwe zonnecelmaterialen, materialen voor kwantumtechnologie en bepaalde halfgeleiders.
