Nikon wil zich terugvechten in de markt voor argonfluoride (ArF)-lithografie. In een interview met Nikkei noemt ceo Yasuhiro Ohmura halfgeleiderlithografie een belangrijke pijler onder de groeistrategie van zijn bedrijf. In dit begin mei gepresenteerde managementplan mikt Nikon op een omzetgroei van 55 procent voor de precisiedivisie, die naast halfgeleiderlithografiesystemen ook FPD-lithografie- en metrologiesystemen verkoopt. Voor Nikon als geheel ligt de groeidoelstelling op 35 procent omzetgroei.
Nikon gold ooit als een geduchte concurrent van ASML, maar zag zijn aandeel in de lithografiemarkt gedurende de jaren 2010 gestaag afnemen. In boekjaar 2026 behaalde de divisie Precision Equipment een omzet van 167,2 miljard yen, omgerekend ongeveer 900 miljoen euro. Dat was 17 procent minder dan een jaar eerder. Nikon verkocht in 2026 drie droge ArF-scanners en geen enkele immersie-ArF-scanner.
Ohmura zegt dat gesprekken met grote chipfabrikanten op het punt staan hun vruchten af te werpen. ‘Bestellingen zijn nabij’, aldus de topman. Daarbij wijst hij op een prijsvoordeel ten opzichte van ASML. ‘We produceren veel onderdelen zelf, wat ons een concurrentievoordeel oplevert.’
Voor chipfabrikanten is de aanschafprijs van lithografieapparatuur echter slechts een van de factoren die meewegen in een aankoopbeslissing. Een reeks van specificaties zijn minstens zo belangrijk, inclusief doorvoersnelheid, uptime en overlaynauwkeurigheid. Zelfs als Nikon een systeem zou kunnen aanbieden dat minstens zo goed presteert als dat van ASML tegen een lagere prijs, moet het bedrijf nog aantonen dat zijn machines compatibel zijn met de systemen van de marktleider. Een van de lastigste uitdagingen is bijvoorbeeld het uitlijnen van lagen op patronen die eerder met een ASML-machine zijn belicht.
