Interview

Aan atomair metselwerk voor EUV valt nog volop te verfijnen

De industriële focusgroep voor XUV Optics onderzoekt in Twente de interactie van extreem ultraviolet licht met materiaalstructuren. Doel is de verfijning van het receptenboek voor het conditioneren en manipuleren van EUV-lithografie. ‘ASML en Zeiss hebben nog geen hyper-NA-project gedefinieerd, maar de gereedschapskist voor hogere numerieke aperturen is al best goed gevuld’, zegt hoogleraar Marcelo Ackermann.

René Raaijmakers

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Login

Premium lid worden

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.