Wat komt er na hyper-NA? Blue-X onderzoekt het

Decennialang heeft de halfgeleiderlithografie hetzelfde patroon herhaald. Eerst proberen chipmakers zoveel mogelijk resolutie uit een bepaalde golflengte te persen, en als dat niet meer gaat, stappen ze over op een kortere. Om de resolutie te verbeteren zonder van golflengte te veranderen, beschikken chipmakers traditioneel over twee knoppen om aan te draaien: het vergroten van de numerieke apertuur (NA) van de optica en het verfijnen van allerlei procesparameters die samenkomen in de zogeheten k1-factor. Van die twee heeft een hogere NA historisch gezien de grootste winst opgeleverd.

Ook euv-lithografie volgt dit pad. Binnen enkele jaren zullen de huidige 13,5-nanometer-systemen met een NA van 0,33 worden opgevolgd door euv-tools met een NA van 0,55, beter bekend als high-NA-systemen. ASML en diens opticapartner Zeiss hebben bovendien al een ontwerp afgerond dat de NA verder verhoogt naar 0,75. Of deze zogeheten hyper-NA-systemen ooit in productie zullen worden toegepast, is overigens nog niet definitief besloten.