Deze maand is het veertien jaar geleden dat twee studenten van de TU Delft met hulp van hun hoogleraar Pieter Kruit een nieuw bedrijf startten: Mapper Lithography. Bert Jan Kampherbeek en Marco Wieland ontwikkelden sinds die tijd een lithografietechnologie die met parallelle elektronenbundels werkt in plaats van met licht zoals de machines van ASML of Nikon. Tijdens High-Tech Systems 2014 gunde het Delftse bedrijf de bezoekers een kijkje in de keuken.
De chipindustrie is een zeer competitieve markt. IC-fabrikanten proberen elkaar op allerlei manieren af te troeven. De productieprijs is daarom altijd een aandachtspunt. Een deel van de kosten komt op rekening van de fotomaskers. Voor alle lagen op een chip – en dat zijn er tegenwoordig tientallen – is een op maat gemaakte mal nodig die het licht exact op de juiste plekken laat vallen. Als een fabrikant miljoenen geheugenchips produceert, kan hij de kosten van die reticles nog uitsmeren, maar bij lagere volumes spelen de maskerkosten een steeds grotere rol.
Een alternatief is om niet met licht te werken maar met elektronenbundels. Een chipfabrikant heeft dan geen unieke set maskers meer nodig maar vertelt het systeem elektronisch welke bundels wel en niet moeten worden doorgelaten. Dat is de weg die Mapper Lithography heeft gekozen. De spin-off van de TU Delft werkt sinds 2000 aan deze e-beam-lithografie. Het had heel wat voeten in aarde om van een academische studie en proof of concept te komen tot een marktwaardige machine maar de eerste productietool is nu bijna klaar.
Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.
Login
Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.
