ASML heeft in een laboratoriumexperiment een euv-lichtbron van 1000 watt gevalideerd. Het bedrijf bevestigt daarmee zijn roadmap voor de brontechnologie. De demonstratie betekent dat bronvermogen geen beperkende factor meer zal zijn voor de doorvoer, die uiteindelijk zal groeien naar 400 tot 500 wafers per uur.
Gesimplificeerd genereren ASML’s laser-produced plasma-euv-bronen licht met een golflengte van 13,5 nanometer door krachtige CO2-laserpulsen af te vuren op een stroom microscopische tindruppels die in een vacuümkamer worden geïnjecteerd. Nadat ze vrijwel instantaan zijn omgezet in plasma beginnen de tin-ionen euv-straling uit te zenden.
De sterkste industriële euv-bronnen hangen op dit moment aan high-NA-scanners; zij produceren 600 watt. Om dat naar 1.000 watt te tillen, worden krachtigere laserpulsen afgevuurd, de frequentie van de tindruppels verhoogd van 60 naar 100 kilohertz en de druppels ‘voorbehandeld’ om de efficiëntie te vergroten. Na de demonstratie zijn er geen wezenlijke obstakels meer voor industrialisatie van de 1.000-watt-bron, bevestigde een ASML-woordvoerder aan High-Tech systems Magazine na berichtgeving door Reuters.
Minstens drie bedrijven werken aan alternatieve euv-brontechnologie: Substrate, Tau Systems en XLight. Als vermogen geen beperkende factor meer is, zullen zij een efficiëntievoordeel moeten bieden – bijvoorbeeld uptime of energieverbruik – of lagere totale kosten.
