ASML’s euv-lichtbron krijgt flinke oppepper

Weet u nog, de euv-bron? Tien jaar geleden ging het over weinig anders. De moeizame ontwikkeling van een productiewaardige lichtbron met voldoende vermogen was met afstand de belangrijkste reden dat euv-lithografie niet rond 2010, maar pas aan het einde van vorig decennium in productie werd ingepast. ‘De bron is natuurlijk geen geweldig verhaal en dat zal het ook wel niet worden voorlopig’, liet toenmalig ASML-cto Martin van den Brink zich ontvallen in 2011 (zie Bits&Chips 11, 2011). Zijn mensen moesten toen nog een jaar of zes ploeteren om iets neer te zetten waar ASML’s klanten vertrouwen in hadden.

Dat was een bron met een vermogen van zo’n 250 watt aan euv-licht, goed voor ongeveer 125 wafers per uur – de beschikbare hoeveelheid licht bepaalt voor een belangrijk deel de doorvoersnelheid van euv-scanners. Met een availability van rond de 90 procent stonden de machines nog aanzienlijk langer stil dan chipfabrikanten gewend waren, maar al met al konden ze voldoende wafers per dag verwerken, vonden zowel Samsung als TSMC in 2018. De eerste smartphone met een euv-chip aan boord verscheen in 2019 op de markt.