Achtergrond

ASML reduceert duv-overlayfouten tot onder de 1 nanometer

René Raaijmakers
Leestijd: 9 minuten

Balancerend tussen precisie en productiviteit heeft ASML de doorvoer van zijn duv-machines verhoogd tot 295 wafers per uur, terwijl het een mijlpaal voor overlayfouten bereikte van 1 nanometer in zijn nieuwe Twinscan NXT:2050i. De eerste vijftien systemen zijn inmiddels verscheept.

ASML blijft de overlay in zijn meest geavanceerde immersiescanners verbeteren. Sinds de introductie van het NXT:1950i-platform in 2010 daalde de overlayfout van 3 nanometer naar 1,4 nanometer op het NXT:2000i-systeem van twee jaar geleden. Tegelijkertijd steeg de doorvoer op deze deep uv-scanners van 175 naar 275 wafers per uur.

‘Zoals altijd in onze markt moest het nog beter’, zegt Bart Paarhuis, die tijdens de online conferentie High-Tech Systems 2021 de meest recente overlayresultaten presenteerde op ASML’s nieuwste duv-scanner. ‘Klanten vroegen om extra verbeteringen. De logicafabrikanten willen een betere matching tussen duv- en euv-lagen voor hun 3 nm-node. Onze geheugenklanten vragen om een betere overlay. En allemaal willen ze een hogere productiviteit.’

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Login

Premium lid worden

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.