Marcelo Ackermann aan het hoofd van ARCNL

Euv-optica-expert Marcelo Ackermann is benoemd tot directeur van het Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL), het Amsterdamse onderzoeksinstituut dat mede gesponsord wordt door ASML. Hij volgt Wim van der Zande op, die dit najaar met pensioen gaat.

Ackermann leidt momenteel de Industry Focus Group X-ray and EUV Optics (XUV) aan de Universiteit Twente. Hij heeft uitgebreide ervaring opgedaan in het ontwikkelen van samenwerkingen met industriële partners, waaronder ASML, Zeiss en Panalytical. Ongeveer zeventig procent van het budget van zijn groep wordt gefinancierd door publiek-private partnerschappen en direct gefinancierd contractonderzoek.

‘Ik ben zeer gepassioneerd over de complexe reis die innovatie aflegt – van academisch onderzoek met een lage TRL tot de uitgebreide technische inspanningen die nodig zijn om innovatie tot wasdom te brengen in complexe hightechapparatuur’, zegt Ackermann. Voor zijn academische carrière werkte hij in de industrie. Hij werkte onder andere bij ASML, waar hij verantwoordelijk was voor de gehele optische keten van euv-lithografie, van de CO₂-bronlaser tot het euv-plasma en tindruppels.