Intel: high-NA-EUV is niet te duur

Als het op de chiplagen met de fijnste structuren aankomt, is high-NA-EUV-lithografie kosteneffectiever dan double patterning met reguliere EUV,

stelt Mark Phillips, directeur Lithography Hardware and Solutions bij Intel. ‘Als je het gebruikt waarvoor het is ontworpen en je er genoeg vertrouwen in hebt dat de ontwikkeling van de technologie zich voldoende volgens schema voltrekt om er je eigen planning op te baseren, dan is high-NA beslist kosteneffectief’, vertelde Phillips aan Tom’s Hardware.