EZ vroeg ASML Mapper over te nemen na druk Pentagon

Paul van Gerven
Leestijd: 2 minuten

De Nederlandse regering riep onder druk van de VS de hulp in van ASML om de e-beamtechnologie van Mapper uit vijandige handen te houden. Uit een reconstructie van NRC Handelsblad blijkt dat het Amerikaanse leger aanvankelijk via een onderaannemer werkte aan een redding van het noodlijdende Delftse bedrijf. Toen dat plan om onduidelijke redenen doodbloedde, ging Mapper failliet en lag zijn IP voor het grijpen. Het Pentagon realiseerde zich zijn fout – Mapper had eerder contact gehad met potentiële investeerders uit China – en drong er bij de Nederlandse regering op aan om in te grijpen. Minister van Economische Zaken Mona Keijzer wendde zich vervolgens tot ASML, dat uiteindelijk het winnende bod uitbracht.

Mappers e-beamtool bij het Franse onderzoeksinstituut CEA-Leti. Foto: CEA-Leti

Hoewel het kortstondig e-beamlithografie heeft overwogen als opvolger van DUV-patronering, concludeerde ASML rond de eeuwwisseling dat de techniek nooit productief genoeg zou zijn voor volumeproductie. Mapper dacht daar anders over, maar nadat de industrialisatie van EUV op gang kwam, begon de spin-off van de TU Delft e-beam in de markt te zetten als een manier om unieke IC’s te maken. Dit zou nieuwe veiligheidstoepassingen mogelijk maken, wat de aandacht trok van het Pentagon.

ASML was echter nog steeds niet onder de indruk. ‘Dat is zo’n kleine markt, voornamelijk gedreven door de Amerikaanse defensie. Dan heb je het over hooguit een machine per jaar’, vertelde ceo Peter Wennink aan Bits&Chips in 2019, een week voordat zijn bedrijf het IP van Mapper overnam en aankondigde technisch personeel een baan aan te bieden. Hij vergat te vermelden dat secretaris Keijzer hem toen al een paar weken eerder een bezoek had gebracht, met het dringende verzoek om Mapper over te nemen.

Natuurlijk waren de expertise en mensen van Mapper meer dan welkom bij ASML: e-beammetrologie is prominent aanwezig in de holistische-lithografiesuite, een verzameling technieken ter ondersteuning van het lithografieproces. ASML betrad de markt in 2016, na de overname van Hermes Microvision (HMI) uit Taiwan. Na enige vertraging, is de single-beaminspectietool geëvolueerd naar 9 en inmiddels 25 parallelle bundels.