ASML verdedigt high-NA als ‘duidelijk de meest kosteneffectieve’ oplossing

De vraag naar high-NA-EUV-systemen is ‘gezond’, verzekerde cfo Roger Dassen aan High-Tech Systems. Het tempo waarin orders binnenkomen ‘is volgens verwachting’, zei hij, en gooide daarmee een emmer koud water over geruchten dat het enthousiasme van chipmakers voor de volgende generatie EUV-lithografiescanners niet zo groot is als je zou verwachten.

In december kwam de kosteneffectiviteit van high-NA-lithografie ter discussie te staan. Op basis van modellen stelde marktonderzoeksbureau Semianalysis dat de lichtdosis die nodig is om de meest complexe lagen te patroneren de doorvoer van high-NA dusdanig omlaag trekt dat EUV double-patterning het op kosten wint, ondanks het feit dat er dan twee keer zoveel wafers door de scanner moeten voor hetzelfde aantal chiplagen.