Je winkelwagen is momenteel leeg!
Interview
EVG’s tweede generatie maskerloos lithoplatform vijfmaal sneller
Leestijd: 4 minuten
EVG Group lanceert in het najaar een maskerloos backend lithografiesysteem dat vijf keer sneller is dan de huidige versie. Bits&Chips sprak met business development manager Ksenija Varga over de positionering van EVG’s Lithoscale-platform.
Business development manager Ksenija Varga wil nog niet uitweiden over de volledige specificaties van EVG’s hoge snelheid maskerloos lithografiesysteem dat in de herfst op de markt komt. Maar ze benadrukt wel dat het vijf keer sneller zal zijn dan de huidige Lithoscale-machine die sinds 2020 verkrijgbaar is. De waferstage die de hogere doorvoer zal aandrijven is een eigen ontwikkeling.
De eerste generatie Lithoscale was voornamelijk gericht op packaging van testtoepassingen, beeldsensoren en beveiliging. De komende generatie machine moet de technologie steviger verankeren in de hoogvolumeproductie, zo verwoordt Varga de ambities van EVG.
Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.
Login
Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.
