Analyse

High-NA bleek toch nog niet helemaal af

Een ontwerpbeslissing voor high-NA-lithografie die ASML moest nemen toen euv zich nog niet had bewezen, kreeg een lange staart.

Paul van Gerven

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Login

Premium lid worden

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.