Zwevende magneten geven ASML’s NXT-platform vleugels en precisie

Leestijd: 5 minuten

ASML tilde gisteren een tipje van de sluier op van de technologie waarmee chipfabrikanten de komende twee jaren hun krimpslagen gaan maken voor de productie van chips met details van 40 tot 22 nanometer. Het gaat om het zogenaamde Twinscan NXT-platform. Dit is een voortzetting van de zeer succesvolle Twinscan XT, waarvan ASML er inmiddels negenhonderd in het veld heeft staan.

De Veldhovense machinefabrikant vloog deze week een internationaal gezelschap journalisten in om zijn nieuwste technologie te showen. Daaronder veel mensen uit Azië. Daar zitten de Nand-flash- en DRam-geheugenfabrikanten en die schreeuwen om machines waarmee ze hun circuits kleiner kunnen afbeelden en zo meer marge uit hun chips kunnen persen.

Het NXT-platform maakt dat mogelijk. Het huidige meest geavanceerde immersieplatform van ASML, de Twinscan XT 1900HI, haalt lijnbreedtes van 38 nm met 193 nm licht. Meer rek zit er niet in met de huidige lenzen. Het is echter wel mogelijk om met behulp van twee belichtingen (double patterning) nog kleinere lijntjes te printen. De XT is niet nauwkeurig genoeg om de twee patronen met voldoende nauwkeurigheid op elkaar te leggen. Hij haalt een overlay van 4 nm, maar dat is niet voldoende. Voor double patterning is 2 nm overlay noodzakelijk.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.