XTreme verdubbelt output EUV-bron

Paul van Gerven
Leestijd: 2 minuten

XTreme Technologies heeft een EUV-bron ontwikkeld die volcontinu een stabiel vermogen van dertig watt afgeeft bij de intermediate focus, het punt waar de bron overgaat in de scanner. Dat heeft het Akense bedrijf aangekondigd op de 2011 International Symposia on EUV Lithography and Lithography Extensions, onlangs in Miami. De vorige XTreme-bron, eerder dit jaar geïnstalleerd bij Imec, leverde vijftien watt af onder dezelfde condities. De komende tijd zal dit exemplaar een upgrade krijgen.

XTreme komt voort uit de EUV-activiteiten van Philips Extreme UV, het Fraunhofer-Institut für Lasertechnik, opto-elektronicagroep Jenoptik en de voormalige lasermaker Lambda Physik. Tegenwoordig maakt het bedrijf deel uit van de Japanse Ushio Group, een conglomeraat rondom industriële lichtapplicaties. Het concurreert met het Amerikaanse Cymer en het Japanse Gigaphoton om als eerste een EUV-bron te leveren die geschikt is voor commerciële productie – een onderneming die al vele malen vertraging heeft opgelopen.

Met dertig watt vermogen neemt XTreme een bescheiden voorsprong op in ieder geval Cymer. De eerstvolgende upgrade van de Amerikanen, gepland in december, levert een bron van twintig watt op met een duty cycle van 90 procent. Zowel Cymer als XTreme beloven rond het tweede kwartaal van 2012 een productieversie van honderd watt (of zestig wafers per uur) te leveren, maar alleen XTreme claimt in het openbaar deze output reeds te hebben gehaald met een prototype. Dat zou precies op tijd zijn, aangezien ASML dan begint met de NXE:3300-productiescanners.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.