Vier eeuwen oude brekingswet basis voor baanbrekend nanometerwerk

René Raaijmakers
Leestijd: 6 minuten

Immersie werd in korte tijd een begrip in het productieproces voor chips. Afbeelden via een dun laagje water maakt 193 nm-lithografie toepasbaar voor de chipgeneratie van 45 nm en verder. Een eeuwenoud fysisch principe, vastgelegd door Willebord Snellius (1581 – 1626), legde de basis voor natte lithografie.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.