TU Delft bouwt op euv gebaseerde metrologietool

Onderzoekers van de TU Delft hebben een lensloze ‘euv-microscoop’ gebouwd om beelden te maken op een schaal van 200 nanometer. Met verdere verfijning verwachten ze in de komende twee jaar chipstructuren van 5 nm te kunnen afbeelden. De technologie zou in de toekomst mogelijk geschikt zijn voor in-line metrologie.

Het Delftse apparaat is iets groter dan een gewone microscoop: het is een vijf meter grote opstelling met daarin een krachtige infraroodlaser, een gigantische doos om euv-licht te genereren en een beeldkamer. Het infrarood laserlicht wordt gefocust, waarna een edelgas in de straal wordt geïnjecteerd, dat veel kortere golflengten begint uit te zenden. Spiegels geven de euv-straal vorm en focussen hem op een monster dat het licht verstrooit. Dit verstrooiingspatroon wordt vervolgens vastgelegd door een camera in de beeldkamer. Speciaal ontwikkelde software vertaalt de verstrooiingspatronen naar een werkelijk beeld.

Het onderzoeksproject maakt deel uit van het Linx-consortium (lensless imaging of 3D nanostructures with soft X-rays), een samenwerking tussen vijf Nederlandse universiteiten en een aantal industriële partners waaronder ASML.