TSMC’s EUV-scanner ligt stil (update)

Leestijd: 1 minuut

Na een fout in de EUV-lichtbron is ASML’s eerste NXE:3300B-scanner in het veld al meer dan drie weken offline. Volgens de eigenaar van de machine, TSMC, ging er iets mis met de uitlijning van de laser in de bron, waardoor de collector beschadigd raakte. ASML gaat het defect repareren.

TSMC vertelde over het probleem op de 2014 Advanced Lithography-conferentie, deze week in San Jose. De Taiwanese foundry was de eerste die de semiproductietool in gebruik nam. Bij twee andere klanten – naar alle waarschijnlijkheid Intel en Samsung – wordt de NXE:3300B momenteel geïnstalleerd.

TSMC ziet in het incident vooralsnog geen reden zijn roadmap aan te passen: het wil EUV nog altijd op het 10-nanometerknooppunt inschuiven. TSMC is vorige maand begonnen met 20-nanometerproductie. Daarna volgen 16-nanometerchips, die overigens eigenlijk Finfet-versies van de 20-nanometerchips zijn.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.