TSMC test euv-bron op 80 watt

ASML heeft bij ‘een klant’ een succesvolle test uitgevoerd met een euv-bron op tachtig watt. Dat heeft het bedrijf bekendgemaakt op het 2014 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography, dat deze week in Washington wordt gehouden. De klant blijkt TSMC te zijn, dat in een andere presentatie zelf gewag maakte van het experiment. De bron stond zonder problemen en met stabiel vermogen 24 uur aan, maar er werden geen wafers belicht. Dit resultaat was voor TSMC reden zich positief uit te laten over de vooruitgang die de ontwikkeling van euv-technologie de laatste tijd heeft geboekt.

ASML laat weten dat de prioriteit momenteel ligt bij de doelstelling om al zijn klanten tegen het einde van het jaar consistent vijfhonderd wafers per dag te laten verwerken. Daarvoor volstaat een bronvermogen van veertig watt. De meest recente test is een eerste stap om het volgende performanceniveau te realiseren, aldus ASML.