ST kiest voor ASML’s lithotoolkit voor sub-30-nm-productie

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

ASML en zijn dochter Brion Technologies zijn een overeenkomst aangegaan met STMicroelectronics om de overgang naar 28- en 22-nanometerproductie te versnellen. Het Silicon Printing Optimization with Lithography Control and Integrated Design-project (Solid) bestrijkt de optimalisatie van het lithografieproces van ontwerp tot productie, de uitbreiding van de gereedschapskist om variabiliteitsreducerende technieken te ontwikkelen en de verkenning van geheel nieuwe litho-oplossingen voor sub-30-nanometerchips. De Fransen zullen in ieder geval ASML‘s bron-maskeroptimalisatie (Tachyon) en de recent aangekondigde programmeerbare belichting (Flexray) gebruiken om hun ontwikkelcyclus te versnellen. ST gebruikte voor 45-nanometerproductie al enkele van dat soort ASML-tools.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.