Sombere EUV-geluiden op lithoconferentie

Leestijd: 1 minuut

Chipfabrikanten zijn bezorgd over het tempo waarmee EUV-lithografie zich ontwikkelt. Op de SPIE Advanced Lithography-conferentie, deze week in San Jose, hebben diverse chipfabrikanten hun zorgen geuit, blijkt uit verslaggeving van de website SemiMD. De technologie blijft echter hun eerste keuze, omdat alternatieven als maskerloze e-beam en ondersteunde zelfassemblage nog verder achterlopen. Als EUV voor handen was, zouden ze het allang gebruiken.

EUV‘s grootste probleem is de lichtbron: die is slechts goed genoeg om een paar wafers per uur te verwerken. Dat is al krap aan voor het inregelen van het productieproces met een nieuwe patroneringstechniek, waarbij nog allerlei onverwachte mankementen aan het licht kunnen komen. Zelfs als een productiewaardige bron op tijd bij chipfabrikanten staat, is het dus nog maar de vraag of er direct productie mee gedraaid kan worden.

Lichtpuntje is dat er een upgrade aankomt voor de lichtbronnen. Cymer heeft daar (alweer) meer tijd voor nodig dan gepland, bleek onlangs. Concurrent XTreme Technologies presenteert zijn voortgang donderdag 16 februari op de SPIE AL. Het Japanse Gigaphoton arriveerde onlangs op het niveau van Cymer en XTreme.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.