Sematech plant programma multi-beamlitho

Verschillende bedrijven zouden interesse hebben in Sematechs geplande onderzoeksprogramma voor e-beamlithografie met meerdere bundels. Het Amerikaanse onderzoeksinstituut wil met het initiatief toenemende fabricagetijden van fotomaskers aanpakken. Voor 32-nanometerchips duurt dat een pijnlijke twee tot drie keer langer dan voor 65-nanometerchips. Tot de geïnteresseerden behoren onder meer meer het Duitse e-beamspecialist Vistec en twee Japanse makers van maskerschrijvers, Jeol en Nuflare. Mapper, dat zich in eerste instantie op productie toelegt, houdt zich op de vlakte, aldus een bericht in Fabtech.