Samsung breekt lans voor EUV

Leestijd: 1 minuut

Op het Industry Strategy Symposium van brancheorganisatie Semi heeft Samsung de industrie opgeroepen meer te investeren in extreemultravioletlithografie. De gedoodverfde technologie voor de toekomstige chipgeneraties moet een aantal hindernissen over, zoals een goede EUV-bron en fatsoenlijke maskerinspectietools. Samsung-onderzoeker Kinam Kim heeft hoge verwachtingen van EUV, dat volgens hem de deuren opent naar structuren van 5 nm. ’Ik ben er 100 procent zeker van dat we de EUV-technologie onder de knie krijgen. We hebben alleen agressievere inzet van toolbouwers en de IC-industrie nodig.‘ Samsung zou al een EUV-preproductietool hebben besteld bij ASML, meldt EE Times.

Vorige maand hield TSMC nog een betoog om juist te kiezen voor parallelle-e-beamlithografie, de alternatieve technologie waar het Delftse Mapper aan werkt. Lithodirecteur Burn Lin zette grote vraagtekens bij de kosten en het energieverbruik van EUV-tools. Lin zei dat proponenten van EUV vaak een rookgordijn opwerpen en problemen met de technologie wegmoffelen. Hij denkt dat veel technische specificaties zoals EUV-fabrikanten die opgeven te laag zijn. Als je hun schattingen aanpast naar meer realistische waardes, kom je op een heel ander kostenplaatje uit. Bovendien rijzen de maskerkosten onder elk scenario de pan uit en moeten chipmakers ’een kerncentrale‘ naast hun fabs zetten om EUV-tools van energie te voorzien.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.