Samenwerking TNO en Ushio gericht op duurzaamheid euv-componenten

Leestijd: 1 minuut

TNO en het Japanse lichtbedrijf Ushio bouwen gezamenlijk in Delft een opstelling om de invloed van euv-straling op componenten in euv-systemen te onderzoeken, zoals de optica, maskers en pellicles (anti-stofvliesjes). Bedoeling is om de levensduur van deze delicate componenten op te krikken. Ushio’s aandeel in de samenwerking is levering van een gepulseerde euv-bron, TNO draagt zijn expertise bij op het gebied van vacuümtechnologie en contaminatiebeheersing.

Een dochterbedrijf van Ushio, Xtreme Technologies in Aken, was lange tijd in de race om een lichtbron voor euv-scanners te ontwikkelen. Toen ASML in 2012 Cymer overnam, kozen de Japanners eieren voor hun geld. Zij zetten de ontwikkeling van hun brontechnologie niet stil, maar verlegden de focus naar inspectiedoeleinden. Op de SPIE-conferentie eind februari in presteert Ushio een paper getiteld ‘High-radiance LDP source: Clean, reliable, and stable EUV source for mask inspection’.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.