Nikon gokt op uitstel EUV

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Nikon zet voorlopig zijn kaarten nog volledig op optische lithografie. Hoewel de Japanse concurrent van ASML ook een EUV-machine ontwikkelt, is het veel minder ambitieus dan de Veldhovenaren met de introductie ervan. ASML denkt nog altijd dat het mogelijk is om 22-nanometerchips te produceren met EUV-fotonen, maar Nikon gaat ervan uit dat het bij het 16- of 11-nanometerknooppunt pas zo ver is. ’Wij verwachten vertraging voor het gereedkomen van het EUV-ecosysteem‘, aldus Yuichi Shibasaki, hoofd van Nikons afdeling die nieuwe productgeneraties ontwikkelt.

Voor Nikon is het uitstel van levensbelang. Zijn optische business heeft de laatste tijd al terrein verloren op ASML, en met een transitie naar EUV voor de deur dreigt het helemaal buitenspel te komen te staan. Alleen als de Japanners hun achterstand op ASML goed kunnen maken, hebben ze nog een kans om het hoofd boven water te houden.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.