Nearfield Instruments verkoopt eerste metrologiesysteem

Nearfield Instruments heeft zijn eerste halfgeleidermetrologiesysteem naar een niet nader genoemde klant verzonden. Het scanning probe-instrument met hoge doorvoer – de Quadra genaamd – bevat meerdere koppen, waarbij dichte structuren met hoge aspectverhoudingen kunnen worden gemeten op geavanceerde dram- en logicawafers.

Nearfield, opgericht in 2016, bouwt atoomkrachtmicroscopen (afm’s) die 3d afbeeldingen met hoge resolutie van waferoppervlakken maken door ze met veel naalden parallel te scannen. De Rotterdamse spin-off van TNO claimt een 100-voudig doorvoervoordeel ten opzichte van andere geautomatiseerde afm’s met één probe die gericht zijn op in-line metrologie. Deze hoge bemonsteringsfrequentie helpt halfgeleiderfabrikanten bij het bepalen van procesvariaties van partij tot partij, van wafer tot wafer en van chip tot chip op een wafer.

In de toekomst is Nearfield van plan om het aantal scankoppen te vergroten en zijn 3d beeldvormingsmogelijkheden voor toekomstige productgeneraties uit te breiden ‘Naarmate kritieke dimensies steeds kleiner worden met elk nieuw technologieknooppunt en steeds meer driedimensionaal worden, neemt het belang van metrologie toe. Ons nieuwe 3d-metrologiesysteem Quadra kan enkele van de belangrijkste uitdagingen oplossen, vooral voor smalle geultjes met hoge aspectverhoudingen, en deze meten met de doorvoer die productieomgevingen nodig hebben’, aldus Hamed Sadeghian, president en cto van Nearfield.