Nano-instituut naar Amsterdam

ASML, Fom, NWO, de UvA en de VU willen een Instituut voor Nanolithografie (INL) oprichten. Het INL zal fundamenteel en toegepast onderzoek uitvoeren, in eerste instantie gericht op de fysische en chemische processen die cruciaal zijn voor toekomstige uitbreiding van EUV-lithografie, zoals het EUV-licht, infraroodlaserfysica, oppervlaktefysica van clusters en radicalen en nanofotochemie. Het zal in de herfst van dit jaar beginnen onder de vleugels van Fom-instituut Amolf, maar tegen 2015 zijn uitgegroeid tot een zelfstandig instituut op het Science Park Amsterdam.

Het INL krijgt naar verwachting de beschikking over een budget van zo‘n honderd miljoen euro over een tijdsbestek van tien jaar. ASML investeert ongeveer dertig miljoen euro, Fom en NWO 25 miljoen, de twee universiteiten 12,5 miljoen en de gemeente Amsterdam vijf miljoen. Het restant moet uit nationale en Europese onderzoekspotjes komen.

’Naast onze bestaande samenwerking met universiteiten en onderzoeksinstituten ziet ASML de noodzaak voor fundamenteel langetermijnonderzoek in nanolithografie, dat zich niet richt op het maken van een concreet product maar op het verkennen van technologische mogelijkheden. Dit instituut met zijn brede onderzoeksagenda zal het kennisnetwerk op het gebied van nanolithografie uitbreiden en bijdragen aan innovatie in de halfgeleiderindustrie‘, aldus Martin van den Brink, technologietopman bij ASML.