Metrologietool voor EUV-maskerinspectie in ontwikkeling

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Sematech en Carl Zeiss slaan de handen ineen om een gat in de EUV-infrastructuur te dichten: maskerinspectie. De partners gaan een machine ontwikkelen die EUV-maskers voor 22-nanometerchips (half-pitch) controleert. Een productiewaardige tool, uitbreidbaar naar 16 nanometer HP, moet in 2014 gereed zijn – op tijd om halfgeleiderfabrikanten te bedienen die al vroeg de EUV-sprong wagen.

Naarmate chipstructuren kleiner worden, neemt de kans toe dat afbeelding van vuiltjes en defecten op het fotomasker tot fatale verstoringen leidt. Bij EUV-lithografie voor 22-nanometerchips en kleiner zijn de eisen aan de properheid en kwaliteit van maskers extreem: ze moeten zo goed als perfect zijn. Dat is al moeilijk genoeg, maar zonder snelle en efficiënte methode om defecten te meten, is het ondoenlijk. Zonder maskerinspectietool geen EUV-chipproductie.

Vorig jaar heeft Sematech het voortouw genomen in het maskerprobleem, maar al langer boeken Sematech-onderzoekers gestage vooruitgang met de reductie van het aantal defecten per oppervlakte-eenheid.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.