Mappers prototype gereed

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Het Delftse Mapper meldt een doorbraak in de ontwikkeling van een lithografiemachine op basis van elektronenbundels. De maskerloze lithografiespecialist beeldde patronen af met een resolutie van 45 nanometer. Halfgeleiderfabrikant TSMC, een goede relatie van Mapper, reageerde enthousiast. ’Het is een prestatie van formaat. We gaan door met onderzoeken of we Mappers technologie kunnen toepassen in onze productieprocessen‘, aldus groepsleider lithografie Burn Lin van TSMC. De Delftenaren gaan komend jaar prototypes bouwen om bij de Taiwanezen proef te laten draaien.

Mappers concept spaart chipmakers de fabricage van maskers uit, waarvan er enkele tientallen verschillende per chip nodig zijn. Dat heeft aantal voordelen, zoals een flinke kostenbesparing. Belangrijker is echter de verkorting time-to-market omdat het maken van maskers een tijdrovend proces is. In Mappers lithografiemachine schrijven 10 duizend elektronenbundels tegelijk in de fotolak. De stralen worden aangestuurd met behulp van licht. Om ze nauwkeurig te kunnen richten, gebruikt het bedrijf een lensarray op basis van micro-elektromechanische systemen.

De Delftenaren laten weten de R&D nu te richten op het geschikt maken van de technologie voor 300 mm wafers.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.