Mapper de markt op

Na meer dan tien jaar ontwikkelen heeft Mapper zijn eerste e-beammachine geïntroduceerd. De FLX-1200 kan worden gebruikt om zonder maskers sub-90-nanometerchips uit te tekenen op naar keuze 200 of 300 millimeter wafers, met een ondergrens van 14-nanometerpatronen. De verwerkingssnelheid bedraagt maximaal twee wafers per uur. Op het SPIE Advanced Lithography Symposium, deze week in San Jose, zal Mapper dieper ingaan op de prestaties van het systeem, inclusief de integratie in de fab en de samenwerking met eventuele andere lithografiesystemen. Daarnaast presenteert het Delftse bedrijf samen met Altera een paper waarin het de imagingperformance van de FLX-1200 vergelijkt met immersielithografie.