Kernfusieonderzoekers komen met EUV-bron op de proppen

Pieter Edelman
Leestijd: 2 minuten

Uit het kernfusieonderzoek aan de universiteit of Washington is een spin-off geboren die binnen twee jaar een EUV-bron zegt te kunnen ontwikkelen met een output van 200 watt bij de intermediate focus; de heilige graal voor EUV-lithografiemachines. ZPlasma is momenteel op zoek naar 5 miljoen dollar aan startkapitaal en voert gesprekken met ASML, maar ook met bronleveranciers.

Extreem-ultraviolet licht is lastig om te produceren. Alle drie de partijen die aan een EUV-bron sleutelen, gebruiken hiervoor een plasma, een gas waarin een deel van de atomen uiteen is gevallen in losse elektronen en kernen. Bij bepaalde elementen zenden plasma‘s spontaan EUV-licht uit. Ze zijn echter daardoor zeer onstabiel en lastig te produceren en in stand te houden.

Cymer en Gigaphoton produceren hun plasma‘s door druppeltjes tin met een laser te verhitten, XTreme gebruikt een elektrische ontlading in gasvormig tin. In alle drie de gevallen ontstaat er een kortlevend plasma dat enkele tientallen nanoseconden lang EUV-licht uitzendt voordat het weer vervalt.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.