Japanners nemen leiding in ontwikkeling EUV-bron

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Het Japanse EUVA-consortium claimt ‘s werelds krachtigste EUV-lichtbron te hebben ontwikkeld. De lamp heeft een output van 104 watt. De laatste mijlpaal die concurrent Cymer de grond in sloeg, vorige zomer, had een vermogen van 75 watt. Deze bron gebruikt ASML in zijn preproductiemachines, waarvan de eerste over een paar maanden worden verscheept. Destijds zei Cymer op korte termijn een 100 watt bron te verwachten, maar het Amerikaanse bedrijf heeft hierover sindsdien niets losgelaten.

De Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association richt zich op alle aspecten van EUV-lithografieontwikkeling. Twee bedrijven, Komatsu en Ushio, ontfermen zich onder de naam Gigaphoton over de bron. Eerder deze week werd bekend dat Ushio de EUV-activiteiten van Philips overneemt.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.