Intel toont eerste volle 450 mm wafer

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Op het Semi Industry Strategy Symposium vorige week in Half Moon Bay (Californië heeft Intel ’s werelds eerste volledig bedrukte 450 millimeter wafer getoond. De processormaker gebruikte voor de lithografie een machine van Molecular Imprints, een Amerikaanse firma die nano-imprintlithografie (NIL) naar voren probeert te schuiven als alternatief voor optische litho. Bij gebrek aan optische machines die met het grotere waferformaat overweg kunnen, wordt momenteel NIL gebruikt bij de ontwikkeling van 450-millimetertechnologie. Volgens Molecular Imprint kunnen zijn machines 24-nanometerpatronen neerleggen met een line edge roughness van 2 nanometer (3 sigma) en een critical dimension uniformity van 1,2 nanometer (3 sigma). Over de overlayprestaties – een bekend probleempunt van NIL – geeft het bedrijf geen data.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.