‘Herstart’ DPP-bron van de baan

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Er is alweer een einde gekomen aan het initiatief om de DPP-bron voor euv-lithografie nieuw leven in te blazen. Oorspronkelijk ontwikkelde het Japanse Ushio deze technologie in Aken parallel aan de LPP-lichtbron, maar met de overname van Cymer koos ASML definitief voor de laatste. Ex-ASML’er Thieu Berkers zag desalniettemin mogelijkheden om snel een productiewaardige DPP-bron te ontwikkelen, maar Ushio wil daar niet aan meewerken.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.