Gigaphotons euv-bron bereikt 140 watt

Gigaphoton heeft een euv-lichtbron ontwikkeld die continu, maar bij een duty cycle van vijftig procent, 140 watt vermogen levert. Dat heeft de Japanse laserspecialist bekendgemaakt voorafgaand aan het SPIE Advanced Lithography Symposium volgende week in San Jose. Het geleverde vermogen is naar eigen zeggen voldoende voor massaproductie, maar het doel blijft 250 watt output tegen het einde van het jaar. Dat loopt iets voor op ASML’s ambities – dat voorziet in 250 watt in de eerste helft van 2016. In tegenstelling tot Gigaphoton heeft ASML echter diverse bronnen in het veld operationeel.