Gigaphoton: ‘Wij kunnen euv-introductie bespoedigen’

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Gigaphoton zegt na een succesvolle test de introductie van euv-lithografie in ic-volumeproductie naar voren te kunnen halen. De Japanners hebben een euv-bron van 42 watt drie uur achtereen aan gehad bij een duty cycle van vijftig procent. Op basis van deze prestatie denken ze aan het eind van het jaar volcontinu 150 watt euv-licht te kunnen produceren, gevolgd door 250 watt in 2015. ‘Ik heb er vertrouwen in dat Gigaphotons inspanningen om een lpp-lichtbron te ontwikkelen ertoe leiden dat euv-volumeproductietools eerder worden geïntroduceerd’, aldus ceo Hitoshi Tomaru van Gigaphoton.

Onlangs bleek dat op één na alle klanten van ASML ervoor kiezen de introductie van euv in massaproductie door te schuiven naar het zevennanometerknooppunt. Waarom is niet duidelijk, maar Tomaru lijkt te suggereren dat het sneller kan met Gigaphotons lichtbronnen. ASML’s scanners zijn bron-agnostisch.

De testresultaten op basis waarvan Gigaphoton vertrouwen wint, vormen geen uitzonderlijke prestatie. De ASML-bron die IBM onlangs gebruikte om 637 wafers in 24 uur te belichten, kende een vergelijkbaar vermogen en vermoedelijk een betere duty cycle. De vermogens die de Japanners zeggen dit en volgend jaar te kunnen leveren, daarentegen, liggen aardig in lijn met ASML’s roadmap. Zij hebben echter nog geen systemen in het veld.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.