Gigaphoton onthult EUV-bron van 7 watt

Gigaphoton heeft een EUV-bron van 7 watt continu ontwikkeld. Het Japanse bedrijf komt daarmee formeel langszij concurrenten Cymer en XTreme Technologies, die beide vorig jaar al een bron met een dergelijke output onthulden. Sindsdien zijn deze bedrijven zijn echter al druk bezig geweest met een upgrade naar een wattage in de twintig. Onlangs werd bekend dat Cymer de daarvoor gestelde deadlines niet gaat halen; hoe ver XTreme is, wordt deze week op de SPIE Advanced Lithography-conferentie bekendgemaakt.

De bron van Gigaphoton werkt net als die van Cymer op basis van het laser-produced plasma-principe (LPP), waarbij een krachtige laser op druppeltjes tin schiet. Daarbij komt niet alleen EUV-straling vrij, maar ook allerlei brokstukjes die het delicate spiegelsysteem van de bron kunnen aantasten. Gigaphoton gebruikt een magnetische techniek om de lichtcollector schoon te houden, Cymer een gordijn van inert gas. Een andere moeilijkheid van de LPP-techniek is om stabiel druppels te vormen en deze zeer nauwkeurig getimed weg te schieten.