‘Euv te laat voor start 10-nm-productie’ (correctie)

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Chipfabrikanten zullen hun eerste series tiennanometerchips uitsluitend met immersielithografie produceren, maar in een later stadium alsnog euv-machines inschakelen. Dat zegt technisch topman Martin van den Brink van ASML in een interview met EE Times. Het was al bekend dat chipbedrijven twee parallelle routes naar tiennanometerchips nemen, maar niet hoe ze dat precies zouden vormgeven.

Over de euv-bron vertelde Van den Brink dat ASML een exemplaar van 77 watt in het lab heeft staan, het vermogen waarover klanten vanaf begin volgend jaar kunnen beschikken om de productie voor te bereiden die vermoedelijk in 2016 zal aanvangen. Voor deze zevennanometerproductie zullen de Veldhovenaren ook verschillende upgrades van de optica en software aanbieden.

Correctie: dit artikel suggereerde oorspronkelijk dat euv helemaal niet gebruikt zou worden op het tiennanometerknooppunt.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.