EUV-ontwikkeling stagneert

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Het gaat bijzonder moeilijk worden om EUV-lithografie tegen 2014 in productie te nemen. Dat mag worden opgemaakt uit de conclusies van het 2012 EUVL Symposium, vorige week in Brussel. Experts uit de academische wereld en het bedrijfsleven hielden daar de vooruitgang tegen het licht die de belichtingstechniek het afgelopen jaar heeft gemaakt. Hun slotsom stemt niet optimistisch.

Grootste probleem blijft het vermogen van de bron. Tegen 2014 is 200 watt nodig, oftewel een factor tien tot twintig meer dan nu mogelijk is, korte pulsen niet meegerekend. Het heeft drie jaar gekost om de huidige lichtintensiteit te bereiken, en dat kunststukje zal moeten worden herhaald, wil het EUV-kamp onder aanvoering van ASML zijn recente beloftes nakomen.

Volgens Kurt Ronse van Imec zetten de vertragingen nu al een rem op de wet van Moore. De lithodirecteur vertelde vrijdag een gehoor van journalisten dat chipmakers hun volgende generatie weliswaar 14 nanometer noemen, maar in werkelijkheid zou 16 of 17 nanometer dichter bij de waarheid zijn. Kleinere structuren zijn voor complexe chips niet haalbaar met multipatterningtechnieken.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.