EUV-expert ‘beetje bezorgd’ over vermogen bron

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Onderzoeksmanager lithografie Obert Wood van Globalfoundries is een ’beetje bezorgd‘ over de sprong in vermogen die EUV-bronnen nog moeten nemen om commerciële productie mogelijk te maken. Dat tekende de website Semiconductor Manufacturing and Design op uit zijn mond tijdens een presentatie op de Advanced Semiconductor Manufacturing Conference, half mei in Saratoga Springs. Ook de achterstand in de ontwikkeling van maskersubstraten baren Wood zorgen.

Volgens de veteraan heeft Cymer met elf watt bruikbaar vermogen op dit moment de sterkste bron, gevolgd door XTreme Technologies (zeven watt), terwijl minimaal honderd watt nodig is op de korte termijn, en 350 tot 450 watt op lange termijn. Het aantal defecten per blanco masker is na jaren werk teruggebracht naar 24, maar dat is niet goed genoeg voor logic.

Wood had ook oog voor de pluspunten van EUV. Zo levert de technologie vergeleken met immersielithografie consistent prachtige plaatjes op. De reflecterende optica – ontwikkeld door Fom in samenwerking met ASML en Zeiss – presteert boven alle verwachtingen.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.