Eindhovense start-up pakt alternatieve euv-brontechnologie op

Paul van Gerven
3 september 2014

Voormalig ASML-medewerker Thieu Berkers start een bedrijf om de zogeheten DPP-lichtbron voor euv-lithografie nieuw leven in te blazen. Deze technologie leek in vergetelheid te zijn geraakt toen ASML voor Cymers LPP-bron koos, maar volgens Berkers is DPP veel geschikter om de doorvoer van circa vijftienhonderd wafers per dag te halen die nodig is om euv-productie commercieel aantrekkelijk te maken. Met het Eindhovense Euvlightsources (ELS), waarvan de oprichtingsakte vandaag bij de notaris passeert, tracht hij nu investeerders en partners te vinden die zijn visie delen. Volgens Berkers heeft een aantal bedrijven uit het Brainport-ecosysteem interesse getoond om deel te nemen aan zijn ‘netwerkorganisatie’, zoals hij ELS typeert.

De start-up hoopt de komende tijd voldoende kapitaal op te halen om de brontechnologie in licentie te nemen van Ushio, ASML en Philips. De Japanners haalden hun DPP-ontwikkelinspanningen in 2013 terug van Aken naar eigen land nadat de Veldhovenaren Cymer hadden overgenomen. Ushio gebruikt DPP nog voor euv-maskerinspectie, waarvoor veel minder vermogen is vereist. Berkers wil de DPP-bron opschalen en doorontwikkelen naar een complete bron, die chipmakers kunnen installeren in plaats van een LPP-bron van Cymer of het Japanse Gigaphoton.

Bij DPP, van discharge-produced plasma, wordt een wolkje tin verdampt en met een hoge stroom tot een euv-emitterend plasma omgezet. Bij LPP, van laser-produced plasma, zet een laser druppels tin om in plasma.