Canon mikt op terugkeer in leading-edge-arena met lancering nano-imprinttool

Canon heeft de lancering aangekondigd van een nano-imprintlithografietool (NIL-tool) voor halfgeleiderfabricage. De machine is in staat om 5nm-patronen te produceren, en na verbeteringen van de maskertechnologie ook 2nm-patronen, aldus het in Tokio gevestigde bedrijf. ‛Door apparatuur voor halfgeleiderfabricage met NIL-technologie op de markt te brengen, komt Canon tegemoet aan de behoeften van de makers van zowel geavanceerde chips als van oudere generaties’, stelt een persbericht.

Bij NIL wordt een masker op een resist op de wafer gedrukt, die zich daardoor vormt naar het in het masker gedefinieerde patroon. De techniek wordt al lang aangeprezen als een alternatief voor optische en EUV-lithografie, maar worstelde met hoge defectiviteit, slechte overlay en lage doorvoer. Canon stelt dat de nieuw ontwikkelde technologie voor omgevingscontrole vervuiling met fijne deeltjes onderdrukt, maar doet geen mededelingen over de overlay- of doorvoerprestaties van de nieuwe machines.

Canon is uit de EUV-race gestapt en heeft in 2014 de Amerikaanse nano-imprintstart-up Molecular Imprints overgenomen. Enkele chipmakers, waaronder SK Hynix en Toshiba, hebben tests uitgevoerd met imprinttechnologie.