Bronvermogen euv-scanners naar 125 watt

Leestijd: 1 minuut

ASML heeft onlangs een NXE:3350B-scanner bij een klant geïnstalleerd die beschikt over een bron van 125 watt. Dat heeft het bedrijf bekendgemaakt tijdens een presentatie op de 2016 International Workshop on EUV Lithography, die twee weken geleden werd georganiseerd in Berkeley. De machine wist tijdens de standaard testprotocollen die worden uitgevoerd bij ingebruikname van een nieuwe machine 85 wafers per uur te verwerken.

Deze doorvoer kan niet worden geëxtrapoleerd naar een doorvoer per dag. Het gaat immers niet om een om een marathontest, waarover IBM en TSMC eerder hebben gecommuniceerd. Volgens de laatste officiële update van ASML is de hoogst behaalde doorvoer 1350 wafers per dag. Dit was bij ASML zelf. De doelstelling is 1500 wafers per dag aan het einde van het jaar.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.

Gerelateerde artikelen