ASML’s NXT-platform krijgt upgrade

Paul van Gerven
Leestijd: 5 minuten

ASML heeft zijn NXT-platform voor immersiescanners flink onder handen genomen om aan de eisen te voldoen die de komende generatie chips aan de lithografie stelt.

De fijnste structuren die ASML’s beste diep-UV-immersiescanners (DUV-immersiescanners) onder ideale omstandigheden met één belichtingsstap kunnen afbeelden, meten 38 nanometer. De chipindustrie noemt dit 38 nanometer half-pitch (HP), een aanduiding die doorgaans wordt gebruikt om chipgeneraties aan te duiden. Zo heeft Intel al geruime tijd 22-nanometerprocessoren op de markt, terwijl flashfabrikanten zelfs onder de twintig nanometer zijn gedoken.

Als 38 nanometer het maximaal haalbare is, hoe kunnen Intel en Samsung dan toch 22-nanometerprocessoren en sub-20-nanometergeheugens maken? Het antwoord, afgezien van een soms verwarrende nomenclatuur, is double patterning (DP), het opbouwen van een chiplaag in twee belichtingstappen. Er zijn verschillende DP-varianten, maar het komt erop neer dat het patroon in twee helften wordt opgedeeld, die afzonderlijk van elkaar worden belicht, ontwikkeld en verder verwerkt. Van elke moderne processor of elk modern geheugen kun je er zeker van zijn dat er een of meer kritische lagen met DP zijn gemaakt.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.