ASML scherpt overlay aan van 4 naar 2 nanometer

René Raaijmakers
Leestijd: 9 minuten

ASML heeft de nauwkeurigheid waarmee zijn lithografische machines verschillende patronen op elkaar kunnen afbeelden spectaculair verbeterd. De technische term voor dit passen en meten op nanoschaal is overlay. Het is de mate waarbinnen het hele patroon van twee opeenvolgende belichtingen ten opzichte van elkaar verschoven is. Hoe kleiner de overlay, hoe beter de fit. De meest geavanceerde Twinscan-machines van ASML halen momenteel een overlay van 4 nanometer, pakweg twaalf atoomlengtes. De technici uit Veldhoven hebben nu aangetoond dat een overlay van 2 nanometer haalbaar is.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.