ASML pimpt immersie voor 22 nm chips en 200 wafers per uur

René Raaijmakers
Leestijd: 2 minuten

ASML introduceert een drietal technologieën die de productie van 22-nanometerchips met immersiescanners en 193-nm-argonfluoridelasers binnen bereik brengen. Het gaat om uitbreidingen op het Twinscan-immersiesysteem NXT:1950I. De eerste scanner van dit type bracht ASML twee jaar geleden op de markt. Op dit moment maken chipfabrikanten er geïntegreerde circuits mee met details van 45 tot 32 nanometer.

Door de vertraging van extreem-ultravioletlithografiesystemen (EUV) grijpt de halfgeleiderindustrie naar double patterning als tussenoplossing. Chips worden hiermee in twee opvolgende stappen belicht om kleinere details te realiseren. Aan double pattering kleven echter verschillende nadelen. Een plak twee keer belichten kost tijd, terwijl lithografie al de grootste bottleneck en duurste stap is in het hele fabricageproces van IC‘s. Om de prijs van double patterning toch binnen de perken te houden, trok ASML de afgelopen jaren alles uit de kast om de doorvoersnelheid van zijn systemen te verhogen. Met de huidige upgrade maakt de machinefabrikant opnieuw een stap in de doorvoer. De verhoging is van 175 tot 200 plakken per uur bij 125 belichtingen.

Om met een dubbele belichting kleinere details te realiseren moeten beide patronen zeer nauwkeurig over elkaar vallen. De fout in de precisie waarmee dit gebeurt, de zogenaamde overlay, mag niet groter zijn dan 3 nanometer in de meeste veeleisende chipprocessen.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.